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Metricon 2010/M棱鏡耦合器

更新時(shí)間:2025-01-02

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  • 品牌:澳大利亞Metricon
  • 型號(hào):Metricon 2010/M
  • 描述:Metricon 2010/M 型棱鏡耦合器采用光波導(dǎo)技術(shù),可快速、準(zhǔn)確地測(cè)量介電膜和聚合物薄膜的厚度、折射率/雙折射率,以及塊狀材料的折射率。與基于橢圓偏振法或分光光度法的傳統(tǒng)折光儀和儀器相比,20...
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產(chǎn)品介紹

澳大利亞Metricon 2010/M棱鏡耦合器描述:

Metricon 2010/M 型棱鏡耦合器采用光波導(dǎo)技術(shù),可快速、準(zhǔn)確地測(cè)量介電膜和聚合物薄膜的厚度、折射率/雙折射率,以及塊狀材料的折射率。與基于橢圓偏振法或分光光度法的傳統(tǒng)折光儀和儀器相比,2010/M 具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì):

完全通用 – 無(wú)需了解薄膜/基板的光學(xué)特性

常規(guī)索引分辨率為 ±.0005(精度高達(dá) ±.0001,適用于許多應(yīng)用 - 參見(jiàn)規(guī)格)

常規(guī)索引分辨率為 ±.0003(分辨率高達(dá) ±.00005,適用于許多應(yīng)用 - 參見(jiàn)規(guī)格)

本體、基材或液體材料的高精度指數(shù)測(cè)量,包括雙折射/各向異性

快速(20 秒)表征薄膜或漫射光波導(dǎo)或 SPR 傳感器結(jié)構(gòu)

折射率與波長(zhǎng)的簡(jiǎn)單測(cè)量

可選擇測(cè)量指數(shù)與溫度 (dn/dT) 和波導(dǎo)損耗的關(guān)系

指數(shù)測(cè)量范圍寬 (1.0-3.35)

2010/M 型是其前身 2010 型的重大改進(jìn),提供與 Windows XP/Vista/Seven 的兼容性,這是一個(gè)經(jīng)過(guò)大幅改進(jìn)且用戶友好的基于 Windows 的控制程序,以及新的測(cè)量功能,例如能夠?qū)Ψ浅:竦谋∧みM(jìn)行準(zhǔn)確的厚度和折射率測(cè)量,以及測(cè)量折射率與溫度 (dn/dT) 的選項(xiàng)。它還消除了對(duì) 2010 所需的現(xiàn)已過(guò)時(shí)的 ISA 接口卡的需求。

測(cè)量理論

待測(cè)樣品(下圖 1)通過(guò)氣動(dòng)耦合頭與棱鏡底部接觸,在薄膜和棱鏡之間形成一個(gè)小氣隙。激光束撞擊棱鏡的底部,通常在棱鏡底部完全反射到光電探測(cè)器上。在入射角的某些離散值(稱為模式角)下,光子可以穿過(guò)氣隙進(jìn)入薄膜并進(jìn)入引導(dǎo)光傳播模式,從而導(dǎo)致到達(dá)檢測(cè)器的光強(qiáng)度急劇下降:

粗略地估計(jì),第一種模式 (dip) 的角度位置決定了薄膜指數(shù),而兩種模式之間的角度差決定了厚度,從而可以完全獨(dú)立地測(cè)量厚度和指數(shù)。

使用計(jì)算機(jī)驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)進(jìn)行測(cè)量,該旋轉(zhuǎn)臺(tái)改變?nèi)肷浣?,并自?dòng)定位每種薄膜傳播模式。一旦找到兩個(gè)振型角,就可以計(jì)算出薄膜厚度和折射率。整個(gè)測(cè)量過(guò)程是完全自動(dòng)化的,大約需要 20 秒。

給定折射率的薄膜支持的模式數(shù)量隨著薄膜厚度的增加而增加。對(duì)于大多數(shù)薄膜/基板組合,需要 100-200 nm 的厚度來(lái)支持第一種模式,而 1 微米范圍內(nèi)的薄膜可以支持多達(dá)四到五種模式。如果薄膜的厚度足以支持兩種或多種傳播模式(通常為 300-500 nm),則 2010/M 型會(huì)計(jì)算每對(duì)模式的厚度和折射率,并顯示這些多重估計(jì)值的平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差。

標(biāo)準(zhǔn)差計(jì)算是棱鏡耦合技術(shù)獨(dú)有的,是測(cè)量自洽性的指標(biāo),也是確認(rèn)測(cè)量有效性的有力手段。

可以對(duì)厚度達(dá) 10-15 微米的大多數(shù)樣品進(jìn)行厚度和折射率的測(cè)量。對(duì)于厚度超過(guò) 15 微米的樣品,仍然可以使用整體測(cè)量技術(shù)測(cè)量折射率(見(jiàn)下文),盡管許多樣品的厚度和折射率通常在厚度高達(dá) 150-200 微米時(shí)可以測(cè)量。

當(dāng)用作折光儀測(cè)量塊狀材料的折射率時(shí)(上圖 2),樣品也被夾在棱鏡上,并通過(guò)測(cè)量樣品/棱鏡界面的臨界角 θc 來(lái)確定折射率。厚度超過(guò) 10-15 微米的薄膜通常顯示出明顯的臨界拐點(diǎn)角,可以作為散裝材料進(jìn)行測(cè)量。柔性材料易于測(cè)量,并且有一個(gè)電解池可用于液體測(cè)量。與大多數(shù)單波長(zhǎng)(通常為 589 nm)的傳統(tǒng)折光儀不同,2010/M 可配備多達(dá)五個(gè)激光器,從而可以在較寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)輕松測(cè)量色散。

通過(guò)改變激光器的偏振態(tài),可以在 x、y 和 z 方向上測(cè)量薄膜和塊狀材料的折射率各向異性(雙折射)。

2010/M 型優(yōu)勢(shì)

與現(xiàn)有的薄膜表征方法相比,2010/M 型采用棱鏡耦合技術(shù),具有其他幾個(gè)優(yōu)勢(shì):

共性:2010/M 型數(shù)據(jù)分析軟件是完全通用的,幾乎可以測(cè)量任何薄膜,而無(wú)需了解薄膜或基材的光學(xué)特性。

索引精度、分辨率和穩(wěn)定性:棱鏡耦合技術(shù)為薄膜測(cè)量提供了比任何其他薄膜測(cè)量技術(shù)更高的索引精度和分辨率。此外,由于折射率測(cè)量?jī)H對(duì)棱鏡的耦合角和折射率敏感(不隨時(shí)間變化),因此棱鏡耦合測(cè)量隨著時(shí)間的推移非常穩(wěn)定,因此無(wú)需定期校準(zhǔn) 2010/M。

對(duì)波長(zhǎng)隨索引變化引起的誤差不敏感:每片膠片的折射率隨波長(zhǎng)而變化。在依賴分光光度法(干涉與波長(zhǎng))的技術(shù)中,如果不能準(zhǔn)確知道薄膜在整個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)的折射率變化,將導(dǎo)致大量誤差。此外,許多薄膜的折射率與波長(zhǎng)曲線高度依賴于薄膜沉積條件。對(duì)于此類薄膜,2010/M 型的單色測(cè)量具有明顯的優(yōu)勢(shì)。如果必須測(cè)定各種波長(zhǎng)的折射率,則 2010/M 型可以配置多達(dá)五個(gè)激光器,并且可以在不到 5 秒的時(shí)間內(nèi)從單個(gè)折射率測(cè)量中生成連續(xù)的折射率與波長(zhǎng)曲線。

與橢圓偏振法相比的優(yōu)勢(shì):由于橢偏儀數(shù)據(jù)隨薄膜厚度呈周期性變化,因此單波長(zhǎng)橢圓偏振儀需要預(yù)先了解薄膜厚度,精度為 ±75 至 ±125 nm,具體取決于薄膜指數(shù)。2010/M 型可直接測(cè)量厚度,不需要事先了解薄膜厚度。此外,在某些周期性厚度范圍內(nèi),使用單波長(zhǎng)橢圓偏振儀進(jìn)行折射率測(cè)量是不可能的。使用 2010/M,一旦薄膜厚度超過(guò)某個(gè)最小閾值(通常為 300-500 nm,取決于薄膜/基板類型),即可獲得全精度指數(shù)測(cè)量值。多波長(zhǎng)橢圓偏振儀為精確的薄膜測(cè)量提供了潛力,但數(shù)據(jù)分析非常復(fù)雜,通常只有在對(duì)樣品的光學(xué)參數(shù)有廣泛的預(yù)先了解的情況下才能獲得良好的結(jié)果。

材料色散的簡(jiǎn)單“光譜”測(cè)量:2010/M 型可在離散激光波長(zhǎng)處測(cè)量折射率,通常配備 1-5 個(gè)激光器。對(duì)于具有三個(gè)激光器的系統(tǒng),Metricon® 使用新穎的擬合技術(shù)開(kāi)發(fā)了軟件,可以在短短幾秒鐘內(nèi)計(jì)算出擴(kuò)展波長(zhǎng)范圍(例如 400-700 nm 或 633-1550 nm)內(nèi)極其精確的折射率與波長(zhǎng)曲線。四個(gè)或五個(gè)激光系統(tǒng)分別在 400-1064 和 400-1550 nm 范圍內(nèi)提供精確的色散曲線。在大多數(shù)情況下,在中間波長(zhǎng)下計(jì)算的指數(shù)值與激光在該波長(zhǎng)下測(cè)量的指數(shù)幾乎相同。

在透明基材上的測(cè)量:2010/M 型可用于測(cè)量透明基板上的薄膜,即使薄膜和基板之間的折射率匹配相對(duì)較近。此外,棱鏡耦合技術(shù)對(duì)來(lái)自基板背面的反射不敏感,這在橢圓偏振法和其他薄膜測(cè)量技術(shù)中通常很麻煩。

內(nèi)部自洽檢查:如果薄膜厚度超過(guò) 500-750 nm,則對(duì)薄膜厚度和指數(shù)進(jìn)行多個(gè)獨(dú)立估計(jì),并顯示這些多個(gè)估計(jì)的標(biāo)準(zhǔn)差。只要測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)偏差較低(厚度通常為 0.3%,指數(shù)為 0.01%),則不太可能出現(xiàn)明顯的誤差。沒(méi)有其他技術(shù)對(duì)每次測(cè)量的有效性提供類似的 “置信度檢查”。

更輕松、更準(zhǔn)確地測(cè)量散裝物料的指數(shù):2010/M 可以在 x、y 和 z 方向上測(cè)量 1.0 至 3.35 的折射率,并且測(cè)量是全自動(dòng)的,沒(méi)有傳統(tǒng)折光儀常見(jiàn)的操作員主觀性。2010/M 不需要使用雜亂、有毒或腐蝕性的匹配液體,并且可以處理光學(xué)平整度或拋光度相對(duì)較差的樣品(甚至可以測(cè)量略微圓潤(rùn)的鑄造“斑點(diǎn)”)。

2010/M 的限制

厚度必須足以支持兩種或多種傳播模式。在 633 nm 的測(cè)量波長(zhǎng)下,這為高折射率襯底(例如硅或 GaAs)上的薄膜確定了 300 至 500 nm 的厚度下限。對(duì)于較低折射率基底上的薄膜,最小厚度限制可以降低多達(dá) 2 倍,如果假設(shè)薄膜折射率,通常可以對(duì)薄至 100-200 nm 的單模薄膜進(jìn)行僅厚度測(cè)量。通過(guò)首先測(cè)量較短波長(zhǎng)(如 633 nm)的厚度和折射率,可以準(zhǔn)確測(cè)量較長(zhǎng)波長(zhǎng)(例如 1310 或 1550 nm)的單模薄膜。然后,可以在較短波長(zhǎng)處測(cè)得的厚度與在較長(zhǎng)波長(zhǎng)下測(cè)得的單模一起使用,以提供準(zhǔn)確的指數(shù)測(cè)量。

如果薄膜厚度低于最小可測(cè)量閾值,則不會(huì)進(jìn)行錯(cuò)誤測(cè)量,而 2010/M 只會(huì)通知用戶無(wú)法進(jìn)行測(cè)量。上述最小厚度限制只是近似值,詳細(xì)取決于薄膜和基材的折射率以及測(cè)量波長(zhǎng)。

另一個(gè)限制是基于棱鏡耦合技術(shù)涉及與被測(cè)表面的接觸這一事實(shí)。因此,對(duì)于需要高清潔度的應(yīng)用,通常在非產(chǎn)品測(cè)試樣品上進(jìn)行 2010/M 型測(cè)量。

可測(cè)量薄膜/基材

大多數(shù) 2010/M 型應(yīng)用都圍繞著快速準(zhǔn)確地測(cè)量通過(guò)等離子體、低溫或其他沉積方法沉積的可變折射率薄膜的需求,或測(cè)量科學(xué)文獻(xiàn)中數(shù)據(jù)很少的新型或不尋常的薄膜或散裝材料的需求。對(duì)于這些應(yīng)用,2010/M 型提供針對(duì)任何折射率變化進(jìn)行全面校正的厚度測(cè)量。

幾乎可以測(cè)量任何在測(cè)量波長(zhǎng)下不強(qiáng)吸收的薄膜,只要薄膜足夠厚以支持至少兩種光傳播模式(有關(guān)典型的最小厚度,請(qǐng)參閱規(guī)格)。薄膜幾乎可以在任何基材上測(cè)量,包括高折射率或吸收性基材,如硅或金屬。實(shí)際上,任何在測(cè)量波長(zhǎng)下不強(qiáng)吸收的塊狀材料也是可以測(cè)量的。以下是 Metricon® 系統(tǒng)測(cè)量的具有代表性的薄膜和基材或散裝材料類型列表(以下任何薄膜材料的獨(dú)立薄膜或散裝樣品也可測(cè)量):

薄膜:SiO2(摻雜和未摻雜)、氮化硅、等離子體 SiN、氮氧化硅、光刻膠、聚酰亞胺、聚酰胺、液晶、PMMA、全息凝膠、溶膠凝膠、硅、SiC、金剛石、落射石榴石、電光聚合物、AlGaAs、BaTiO3、GaN、InP、ITO、KTP、MgO、PZT、PLZT、Si、Ta2O5、TiO2、YIG、ZnS、ZnSe、ZnCdSe、ZnMnTe、ZnMgTe。

塊狀或基材:石英、光學(xué)玻璃、硫系玻璃、藍(lán)寶石、PET、聚碳酸酯、聚乙烯、聚苯乙烯、LiNbO3、LiTaO3、SiC、ZnS、GaP、GGG、MgO、YAG等激光晶體。

準(zhǔn)確性和便利性

總之,2010/M 型是一款將精度與生產(chǎn)工具的速度、便利性和多功能性相結(jié)合的儀器。無(wú)需事先了解膠片參數(shù),在 20 秒的自動(dòng)測(cè)量中,2010/M 提供了常規(guī)的索引精度和分辨率,充其量只能通過(guò)昂貴和笨重的研究?jī)x器來(lái)達(dá)到。

2010/M 獨(dú)立測(cè)量厚度和折射率,因此厚度測(cè)量針對(duì)折射率變化進(jìn)行了完全校正。此外,測(cè)量的厚度是直接的(而不是增量的),因此無(wú)需預(yù)先確定薄膜的大致厚度或干涉順序。2010/M 在測(cè)量較厚的薄膜、透明基材上的薄膜方面也具有明顯的優(yōu)勢(shì),并且沒(méi)有無(wú)法進(jìn)行折射率測(cè)量的周期性厚度范圍。所有這些優(yōu)點(diǎn)都是完全通用的,既適用于普通材料,也適用于以前從未表征過(guò)的新型材料。

2010/M 規(guī)格

索引精度:±.0005(壞的情況)。絕對(duì)折射率精度主要受到確定測(cè)量棱鏡角度和折射率的不確定性的限制。對(duì)于光學(xué)質(zhì)量合理的樣品,如果使用高分辨率表格,并且如果用戶愿意對(duì)每個(gè)棱鏡執(zhí)行簡(jiǎn)單的校準(zhǔn)程序,則可以實(shí)現(xiàn) ±.0001-.0002 的絕對(duì)折射率精度。NIST、熔融石英和其他標(biāo)準(zhǔn)品可用于指數(shù)校準(zhǔn)。

索引分辨率:±.0003(壞的情況)。對(duì)于光學(xué)質(zhì)量合理的樣品,通過(guò)使用高分辨率轉(zhuǎn)臺(tái)(一種免費(fèi)選項(xiàng)),可以將索引分辨率提高到 ±.00005(見(jiàn)下文)。

厚度精度:±(0.5% + 5 nm)

厚度分辨率:±0.3%

工作波長(zhǎng):低功率 (0.8 mw) He-Ne 激光器 (632.8 nm),CDRH II 類。提供用于測(cè)量較薄薄膜的可選較短波長(zhǎng)(405、450、473、532、594 nm)和用于光纖/集成光學(xué)應(yīng)用的近紅外(830、980、1064、1310、1550 nm)波長(zhǎng)??蛇x離子源將 CDRH 安全等級(jí)更改為 IIIa 或 IIIb。

典型測(cè)量時(shí)間:使用標(biāo)準(zhǔn)工作臺(tái) 10-25 秒,使用高分辨率工作臺(tái) 20-75 秒。

測(cè)量區(qū)域:雖然薄膜和測(cè)量棱鏡在大約 8 mm 見(jiàn)方的面積上接觸,但實(shí)際測(cè)量的薄膜面積直徑僅為 1 mm。

折光率測(cè)量范圍:使用標(biāo)準(zhǔn)棱鏡,可以測(cè)量折射率為 2.65 及以下的薄膜和塊狀材料。專用棱鏡可用于高達(dá) 3.35 的指數(shù)測(cè)量。

可測(cè)量的薄膜類型/厚度范圍:2010/M 型幾乎可以測(cè)量任何非金屬或在工作波長(zhǎng)下具有非常高吸收性的薄膜類型。在許多情況下,只要頂部薄膜具有較高的折射率,雙膜層的一個(gè)或兩個(gè)薄膜的厚度和折射率是可測(cè)量的*。厚度必須超過(guò)最小閾值,該閾值取決于薄膜和基材(或底層薄膜)指數(shù)。在標(biāo)準(zhǔn) (633 nm) 工作波長(zhǎng)下,常見(jiàn)單層或上層薄膜類型可測(cè)量的厚度范圍示例(對(duì)于其他薄膜類型,在具有接近折射率的示例薄膜之間進(jìn)行插值):

膠片類型/索引 厚度和指數(shù) ** 僅厚度
(假設(shè)指數(shù))
Silicon dioxide (n=l.46) or PMMA (n ~1.5) over Si 0.48-150 μ** 0.20-0.48 μ**
Photoresist (n=l.63) over Si 0.42-150 μ** 0.18-0.42 μ**
Photoresist (n=l.63) over SiO2 or glass* 0.70-150 μ** 0.30-0.70 μ**
Alumina or polyimide (n=l.70) over Si 0.38-150 μ** 0.15-0.38 μ**
Alumina or polyimide (n=l.70) over SiO2 or glass* 0.50-150 μ** 0.16-0.50 μ**
Si oxynitride (n=l.80) over Si 0.35-150 μ** 0.14-0.35 μ**
Si oxynitride (n=l.80) over SiO2 or glass* 0.45-150 μ** 0.13-0.45 μ**
Ta2 O5 or Si nitride (n=2.05) over Si 0.32-150 μ** 0.12-0.32 μ**
Ta2 O5 or Si nitride (n=2.05) over SiO2 or glass * 0.30-150 μ** 0.15-0.30 μ**
基板上的高折射率薄膜或二氧化硅以外的低折射率薄膜有時(shí)可以測(cè)量到厚度高達(dá)上述極限的一半??蛇x的較短波長(zhǎng)也可用于將測(cè)量范圍擴(kuò)展到更薄的薄膜。
**對(duì)于超過(guò)最大厚度限制的薄膜,仍然可以使用體積測(cè)量來(lái)測(cè)量指數(shù)。使用VAMFO選項(xiàng),可以在厚度為150μ的薄膜上進(jìn)行非接觸式厚度測(cè)量。

散裝材料/厚膜的僅折射率測(cè)量:材質(zhì)必須是透明或半透明的。使用標(biāo)準(zhǔn)棱鏡可測(cè)量的最大折射率為 2.65(使用高折射率棱鏡時(shí)為 3.35)。精度和分辨率與薄膜測(cè)量相同(見(jiàn)上文)。批量測(cè)量的典型測(cè)量時(shí)間為 10-20 秒。

基材/尺寸:幾乎可以在任何拋光襯底材料上進(jìn)行薄膜測(cè)量,包括硅、GaAs、玻璃、石英、藍(lán)寶石、GGG 和鈮酸鋰,樣品幾乎可以是任何尺寸或形狀。標(biāo)準(zhǔn)裝置可接受最大 8 英寸(200 毫米)見(jiàn)方的樣品。

棱鏡類型:四種標(biāo)準(zhǔn)棱鏡類型可用于測(cè)量各種折射率范圍內(nèi)的薄膜。棱鏡可在大約一分鐘內(nèi)輕松互換,從而允許在單個(gè)系統(tǒng)中使用多種棱鏡類型:

棱柱式 指數(shù)范圍 注釋
200-P-1 <1.80 low wear, optimum for low index (<1.80) films.
200-P-2 1.70-2.45 optimum for high index (>2.10) films. Optional 200-P-2-60 prism increases index measuring range from 2.1-2.65.
200-P-3 <2.10 useful over a wide index range (1.4-2.1).
200-P-4 <2.02 low wear, useful over a wide index range (1.4-2.0).
200-P-2 和 200-P-3 棱鏡會(huì)隨著使用而磨損,必須在 8,000-10,000 次測(cè)量的典型壽命后更換。此外,還有 10 種專用棱鏡類型可供選擇,包括高折射率棱鏡,可實(shí)現(xiàn)高達(dá) 3.35 折射率的測(cè)量。

旋轉(zhuǎn)臺(tái)步長(zhǎng):3.0 或 1.5 分鐘,鍵盤(pán)可選。更高分辨率的樣品臺(tái)(0.9/0.45 或 0.6/0.3 分鐘)也可作為免費(fèi)選件提供。當(dāng)薄膜厚度超過(guò) 5-7 微米時(shí),或者當(dāng)需要提高索引分辨率和準(zhǔn)確性時(shí),建議使用更高分辨率的表格。

主要選項(xiàng):提供允許測(cè)量波導(dǎo)損耗和確定指數(shù)與溫度(高達(dá) 150-200o C)的選項(xiàng)。VAMFO 選項(xiàng)僅允許對(duì)厚度進(jìn)行非接觸式測(cè)量。

PC 要求:可在 Windows 98、2000、XP、Vista 或 Seven 上運(yùn)行。RS232 串行 (COM1) 端口必須可用,并且其他應(yīng)用程序無(wú)法訪問(wèn)。

所需服務(wù):用于激光電源、接口模塊、打印機(jī)(每個(gè) 0.5 安培)和 PC(2.0 安培)的 100-250 VAC 插座。60 psi 空氣 (0.01 cfm)。該裝置可以安裝在普通工作臺(tái)上 — 不需要隔振。

尺寸:整個(gè)系統(tǒng)安裝需要 45 英寸(108 厘米)寬、27 英寸(61 厘米)深、15 英寸(38 厘米)高的區(qū)域。系統(tǒng)總重量(包括計(jì)算機(jī)在內(nèi))為 92 磅(41 千克)。單個(gè)尺寸/重量:

光學(xué)模塊:寬 15 英寸(38 厘米),深 22 英寸(56 厘米),高 12 英寸(30 厘米)/40 磅(18 千克)。

電腦/顯示器:寬 40 厘米(16 英寸)、深 38 厘米(15 英寸)、高 38 厘米(15 英寸)/22 千克(50 磅)。

接口:寬 10 英寸(25 厘米),深 7 英寸(18 厘米),高 3 英寸(8 厘米)/2 磅(1 千克)。

2010/M 型號(hào)訂購(gòu)/選件指南

型號(hào) 2010/M 棱鏡耦合器(包括一個(gè)棱鏡 - 見(jiàn)下文)。完整系統(tǒng),包括 635 nm 激光二極管、Dell Optiplex PC、4 GB RAM、500 GB 硬盤(pán)、8X DVD R/W、22 英寸 LCD、Windows 7 或 Windows 10(請(qǐng)指定)。
200-P-1 用于測(cè)量低折射率薄膜的棱鏡。折射率 <1.80 的薄膜的棱鏡
200-P-2 用于測(cè)量高折射率薄膜的棱鏡(折射率范圍1.80-2.45)
200-P-4 用于測(cè)量折射率范圍寬(1.3-2.0)的薄膜的棱鏡。比上述 200-P-3 更耐用。
特殊棱鏡 庫(kù)存中有 10 種附加棱鏡類型可供滿足特殊測(cè)量需求,包括測(cè)量高折射率材料 (> 3.0)、測(cè)量 SPR 和測(cè)量 EO 系數(shù)。
2010-VO 允許快速(30 秒)轉(zhuǎn)換為非接觸式、僅測(cè)量厚度的 VAMFO 測(cè)量選項(xiàng),  測(cè)量范圍約為 2 至 150 微米的薄膜。
2010-TM 允許觀察 TM 模式或薄膜雙折射(測(cè)量垂直于樣品表面的折射率)的選項(xiàng)。在某些情況下,允許測(cè)量薄至 100 nm 的薄膜厚度和折射率。
2010-TC 測(cè)量   高達(dá) 200o C 的 溫度指數(shù)。
2010-WGL1 405-1064 nm 波長(zhǎng)范圍的 波導(dǎo)  損耗測(cè)量選項(xiàng)(移動(dòng)光纖)。
2010-WGL2 520-1600 nm 波長(zhǎng)范圍的 波導(dǎo)  損耗測(cè)量選項(xiàng)(移動(dòng)光纖)。
對(duì)于需要在其他波長(zhǎng)下進(jìn)行折射率測(cè)量的應(yīng)用,2010/M 型可以方便地容納總共六個(gè)激光器(或五個(gè)激光器和一個(gè)用于外部用戶提供的激光器的端口)。此外,可以用不同的可見(jiàn)激光器代替系統(tǒng)隨附的標(biāo)準(zhǔn) 635 nm 激光器。使用多個(gè)光源,測(cè)量波長(zhǎng)可在不到三十秒的時(shí)間內(nèi)輕松更改。
2010-NSW-1550 添加標(biāo)稱 1550 nm 二極管激光器(需要選件 2010-GE)
2010-NSW-1310 添加標(biāo)稱 1310 nm 二極管激光器(需要選件 2010-GE)
2010-NSW-1064 增加 1064 nm 固體激光器
2010-NSW-980 增加標(biāo)稱 980 nm 二極管激光器
2010-NSW-850 增加標(biāo)稱 850 nm 二極管激光器
2010-NSW-589 增加 589 nm 固體激光器
2010-NSW-520 增加標(biāo)稱 520 nm 二極管激光器
2010-NSW-488 增加標(biāo)稱 488 nm 二極管激光器
2010-NSW-450 增加標(biāo)稱 450 nm 二極管激光器
2010-NSW-405 增加標(biāo)稱 405 nm 二極管激光器
2010-NSW-XXXX 可根據(jù)要求提供其他波長(zhǎng)(473、543、594、650、680、780、830、940 nm 等)
2010-SBL-LW 用于用戶提供的激光器的輔助輸入端口,其波長(zhǎng)大于長(zhǎng)安裝波長(zhǎng)(需要選件 2010-GE 才能使用波長(zhǎng) > 1100 nm)
2010-SBL-UNIV 400-1600 nm 用戶提供的激光器的輔助輸入端口(如果使用波長(zhǎng) > 1100 nm,則需要選件 2010-GE)
2010-GE 鍺探測(cè)器選件(1100 nm 以上操作所需)

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